2009年纳米光子学国际会议在校召开
作者:admin   加入日期:2009-04-02  浏览次数:1670

2009年纳米光子学国际会议在校召开 

    哈工大报讯(物理/文 冯健/图)由我校物理系承办的2009年纳米光子学国际会议于5月11日至14日在哈尔滨召开。纳米光子学会议是美国光学学会主题会议之一。本次会议由哈工大、北京大学和美国代顿大学(University of Dayton,USA)共同主办,并得到中国光学学会(COS)和中国国家自然科学基金委员会的支持,协办单位还有哈工大微系统与微结构制造教育部重点实验室。
    5月11日上午,2009年纳米光子学国际会议开幕式在哈尔滨友谊宫国际会议中心举行。开幕式由我校物理系主任孙秀冬教授主持并致开幕词,我校副校长周玉教授致欢迎辞,美国代顿大学詹其文(Qiwen Zhan)博士介绍了会议的组织情况。出席会议开幕式的有美国纽约州立大学布法罗分校的派若斯.普拉萨德(Paras N. Prasad)教授、国家自然科学基金委数理学部张守著处长、澳大利亚斯威本科技大学(Swinburne University of Technology)的顾敏(Min Gu)教授、北京大学龚旗煌教授、东南大学崔一平教授、加拿大多伦多大学的约翰.赛暜(John Sipe)教授、浙江大学童利民教授、美国代顿大学约瑟夫.豪斯(Joseph W. Haus)教授等国际知名学者。
    纳米光子学是光子学与纳米技术相结合的交叉新兴学科,是近期国内外研究的热点领域,已取得众多科技成果。本次会议为关心目前纳米光子学研究发展的各国科学家和研究人员提供一个交流的平台,同时也为从事纳米光子学及相关领域的科研人员详尽介绍和深入讨论与纳米光子学有关的材料与器件的制备、测试和表征,纳米尺度光学成像,纳米生物光子学等方面的最新进展提供了交流、切磋和探讨的机会。
    本次会议的主题包括纳米光子学材料与器件专题,纳米加工技术专题,纳米光学成像和纳米表征专题以及纳米光子学的应用专题。本次会议共汇聚了国内外众多纳米光子学领域的著名专家和学者,来自世界17个国家和地区的200多名代表参加会议,与会专家与学者就纳米光子学的前沿论题展开了充分交流和热烈讨论。这次会议的举办对加强纳米光子学领域的国际学术交流与协作,促进相关领域交叉学科建设具有重要的意义。